Produkt silisiumkarbid på høyt nivå

TMAH kan øke zeta -potensialet betydeligSilisiumkarbidpulver og reduserer viskositeten til oppslemmingen, og optimaliserer dermed de reologiske egenskapene til oppslemmingen betydelig. Ved pH ca. 1 0 økte zeta -potensialet med henholdsvis 11,7 mV og 21 mV etter å ha lagt til 0. 3% og 0,6% TMAH. Overdreven dispergeringsmiddel vil øke ionekonsentrasjonen i oppslemmingen og føre til en reduksjon i tykkelsen på det elektriske dobbeltlaget, og dermed forverre rehologien til oppslemmingen.

1.En metode for å tilberede silisiummodifiserte tynne filmer på reaktiv sintretSilisiumkarbid(RB-SIC) Materialer ved å bruke en Hall-type ionekilde for å hjelpe elektronstrålefordamping, og poleringseffekten av de modifiserte filmene ved forskjellige deponeringshastigheter ble studert. Overflatespredning og refleksjonsmålinger ble utført på prøvene. Mikrograferene til prøvene viser at strukturen i silisiumfilmlaget har en tendens til å være løs under betingelse av å øke deponeringshastigheten. Etter finpolering av den reaktive sintringen av silisiumkarbidprøver belagt med silisiummodifiserte filmer, synker overflatespredningskoeffisienten til 1,46%, og refleksjonsevnen er nær den for godt polert glassceramikk. Temperatursjokkprøven og overflaten strekkprøve viser at silisiumfilmen ikke har noen sprekker og faller av, er stabil i naturen og har god kombinasjon med silisiumkarbidsubstrat.

Populære tags: Produkt silisiumkarbid på høyt nivå, Kina høyt nivå Produktsilisiumkarbidprodusenter, leverandører, fabrikk