Høynivåprodukt silisiumkarbid

TMAH kan øke zetapotensialet betydeligsilisiumkarbidpulver og redusere viskositeten til slurryen, og derved optimalisere slurryens reologiske egenskaper betydelig. Ved pH ca. 10 økte zetapotensialet med henholdsvis 11,7 mV og 21 mV etter tilsetning av 0,3 % og 0,6 % TMAH. For mye dispergeringsmiddel vil øke ionekonsentrasjonen i slurryen og føre til en reduksjon i tykkelsen på det elektriske dobbeltlaget, og dermed forverre reologien til slurryen.

1.En metode for fremstilling av silisiummodifiserte tynne filmer på reaktiv sintretsilisiumkarbid(RB-SiC) materialer ved å bruke en ionekilde av Hall-type for å hjelpe elektronstrålefordampning, og poleringseffekten til de modifiserte filmene ved forskjellige avsetningshastigheter ble studert. Det ble utført overflatespredning og refleksjonsmålinger på prøvene. Mikrofotografiene av prøvene viser at strukturen til silisiumfilmlaget har en tendens til å være løs under betingelsen med økende avsetningshastighet. Etter finpolering av den reaktive sintringen av silisiumkarbidprøver belagt med silisiummodifiserte filmer, synker overflatespredningskoeffisienten til 1,46%, og reflektiviteten er nær den for godt polert glasskeramikk. Temperatursjokktesten og overflatestrekktesten viser at silisiumfilmen ikke har sprekker og faller av, er stabil i naturen og har god kombinasjon med silisiumkarbidsubstrat.

Populære tags: høyt nivå produkt silisiumkarbid, Kina høynivå produkt silisiumkarbid produsenter, leverandører, fabrikk